产品型号：STQ-64-17

炉膛尺寸：400*400*400mm

额定温度：1700℃

控温精度：±1℃

应用领域：箱式气氛炉炉体法兰式密封结构，在材料的热处理过程中，可以通入氮气、氩气、氧气等保护气体，用于碳材料、金属材料、生物质材料的热处理，也可用于锂电池三元材料的烧结。

产品型号：STH-3-12

炉膛尺寸：150*150*150mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：混合炉体积小，一炉多用，不占用实验室空间，节省资源，有效提高工作效率

产品型号：STGL-60-12

炉管尺寸：Φ60×1200mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理

产品型号：STGX-120-12F

炉管尺寸：Φ120×1500mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：真空连续加料回转管式炉主要应用于无机非金属化合物材料、锂电正负极材料、陶瓷材料、新能源和新材料行业的颗粒粉末烧结热处理专用设备

产品型号：STGX-60-12

炉管尺寸：Φ60×1200mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：该产品广泛应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理

产品型号：STGX-60-14

炉管尺寸：Φ60×1000mm

额定温度：1400℃

控温精度：±1℃

应用领域：用于高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室高温热处理工艺，适用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域

产品型号：STGL-60-17

炉管尺寸：Φ40×1500mm

额定温度：1700℃

控温精度：±1℃

应用领域：立式管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理

产品型号：STGL-40-17

炉管尺寸：Φ40×900mm

额定温度：1700℃

控温精度：±1℃

应用领域：单温区立式管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理

产品型号：STGL-18-12

炉管尺寸：Φ25×900mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：单温区立式管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理

产品型号：STGC-80-12

炉管尺寸：Φ80×1000mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料

产品型号：STG-245-12HG

炉管尺寸：Φ245×800mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理

产品型号：STG-100-17-3

炉膛尺寸：Φ100×1500mm

额定温度：1700℃

控温精度：±1℃

应用领域：三温区管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理。