产品型号：STGX-60-12

炉管尺寸：Φ60×1200mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：该产品广泛应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理

产品型号：STGX-60-14

炉管尺寸：Φ60×1000mm

额定温度：1400℃

控温精度：±1℃

应用领域：用于高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室高温热处理工艺，适用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域

产品型号：STGL-60-17

炉管尺寸：Φ40×1500mm

额定温度：1700℃

控温精度：±1℃

应用领域：立式管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理

产品型号：STGL-40-17

炉管尺寸：Φ40×900mm

额定温度：1700℃

控温精度：±1℃

应用领域：单温区立式管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理

产品型号：STGL-18-12

炉管尺寸：Φ25×900mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：单温区立式管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理

产品型号：STGC-80-12

炉管尺寸：Φ80×1000mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料

产品型号：STG-245-12HG

炉管尺寸：Φ245×800mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理

产品型号：STG-100-17-3

炉膛尺寸：Φ100×1500mm

额定温度：1700℃

控温精度：±1℃

应用领域：三温区管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理。

产品型号：STG-60-17E

炉膛尺寸：Φ60x1000mm

额定温度：1700℃

控温精度：±1℃

应用领域：1700℃管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理。

产品型号：STGX-60-12H

炉管尺寸：Φ60×1200mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理

产品型号：STGX-40-12

炉管尺寸：Φ40×1000mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：1200℃管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理。

产品型号：STGL-336-12-3

炉管尺寸：Φ336×1500mm

额定温度：1200℃

控温精度：±1℃

应用领域：立式管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理。