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1700℃真空炉（罗茨泵机组）

真空炉

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【产品名称】1700℃真空炉【炉膛容积】3L--45L 【额定温度】1700℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】1700℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，配罗茨泵真空机组，真空度5pa，可应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
1200℃真空炉（扩散泵机组）

真空炉

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【产品名称】1200℃真空炉（扩散泵机组）【炉膛容积】30L 【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
1200℃真空气氛箱式炉

真空炉

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【产品名称】1200℃真空气氛箱式炉【炉膛容积】3L--45L 【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
1400℃真空气氛箱式炉

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【产品名称】1400℃真空气氛箱式炉【炉膛容积】3L--45L 【额定温度】1400℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】1400℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
1700℃真空气氛箱式炉

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【产品名称】1700℃真空气氛箱式炉【炉膛容积】3L--45L 【额定温度】1700℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】1700℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
手动门高真空炉-300L

真空炉

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【产品名称】300L高真空炉【炉膛容积】300L 【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
自动门高真空炉-467L

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【产品名称】467L高真空炉【炉膛容积】467L 【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
真空热重实验炉

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【产品名称】真空热重实验炉【炉膛容积】36L 【额定温度】1700℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】1700℃真空热重实验炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
1200℃真空炉（带观察窗）

真空炉

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【产品名称】96L高真空炉（带观察窗）【炉膛容积】96L 【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
1700℃真空炉（带安全阀）

真空炉

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【产品名称】1700℃真空炉（带安全阀）【炉膛容积】3L--45L 【额定温度】1700℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】1700℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域；炉顶装有压力安全阀，当压力大于0.2Mpa时，安全阀自动弹开放气，保护设备和操作人员安全；安全阀经过计量部门检验，带有检验证书。

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