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1200℃-PECVD管式炉系统

1200℃-PECVD管式炉系统

【产品名称】1200℃-PECVD管式炉系统

【炉管尺寸】φ40--φ100mm

【加热区】300mm/440mm 

【额定温度】1200℃

【控温精度】±1℃ 

【应用领域】PECVD系统（等离子增强化学气相沉积系统）由管式炉、真空获得、流量控制和射频电源四大模块组成， 本设备借助13.56Mhz的射频输出使含有薄膜组成原子的气体电离，在真空腔体内形成等离子体，利用等离子的强化学活性，改善反应条件，使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术，最终得到基片上沉积出所期望的薄膜。

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商品描述

【产品名称】1200℃-PECVD管式炉系统

【炉管尺寸】φ40--φ100mm

【加热区】300mm/440mm 

【额定温度】1200℃

【控温精度】±1℃ 

【应用领域】PECVD系统（等离子增强化学气相沉积系统）由管式炉、真空获得、流量控制和射频电源四大模块组成， 本设备借助13.56Mhz的射频输出使含有薄膜组成原子的气体电离，在真空腔体内形成等离子体，利用等离子的强化学活性，改善反应条件，使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术，最终得到基片上沉积出所期望的薄膜。

性能特点：
CVD管式炉系统由管式炉、真空获得、流量控制和射频电源

管式炉可选择不同的管径和恒温区的长度，炉管两端装有高真空不锈钢密封法兰；

真空获得系统可根据试验要求选择不同的真空泵，旋片式机械真空泵真空度≤5pa，分子泵真空机组真空度1×10-4pa；

气路供气系统可选择3路浮子手动和3路自动质量流量系统

真空测量为数字复合真空机或皮拉尼真空计

等离子体放电选择13.56Mhz的设备电源，功率输出可选择200W、300W和500W

管式炉可选择单温区300mm和440mm，也可选择三温区或多温区进行温度的梯度试验

温控器内置的RS485数字通信端口和USB适配器作为可选配置，可连接PC，用于系统的远程控制和监视，还可以保存或导出测试结果。

产品符合欧盟CE标准。

型号

STGP-40-12

STGP-60-12

STGP-80-12

STGP-100-12

炉管尺寸

Φ40 x 1200mm

Φ60 x 1200mm

Φ80 x1200mm

Φ100 x 1200mm

额定温度

1200℃

工作温度

1100℃

加热区尺寸

300mm/440mm

电源电压

220V/1.8KW

220V/2.6KW

220V/2.6KW

220V/2.6KW

加热元件

HRE铁铬铝合金电阻丝

炉膛材料

湿法真空抽滤成型制备的多晶无机氧化铝陶瓷纤维材料

炉管材料

石英管

控温精度

±1℃

测温元件

N型热电偶

温控仪表

智能微电脑PID温控仪表，SCR/SSR控制，PID参数自整定功能；可编程序30个时段，程序升温、程序保温、程序降温

升温速度

1-25℃/min自由调节

炉体结构

炉膛温控一体式结构，炉膛开合式；双层外壳，空气循环隔热

密封性能

炉管两端装有不锈钢金属法兰，配套高温 PTFE 垫圈，可在真空下进行工作， 真空度≤5pa（旋片式真空泵）

射频电源

频率：13.56 MHz±0.005%，功率：5W-500W，功率稳定性 ：±0.5%

气体控制

可选择3路浮子手动流量计，量程60-600ml /min；3路自动质量流量计，量程1-500sccm

气氛性能

法兰两端有进气口和出气口，压力表装在金属法兰上，精密针型阀可调节进气和出气量，可通入氮气、氩气、氢气等保护气体

气路接口

KF25真空挡板阀和KF25不锈钢波纹管连接真空泵；保护气氛6mm不锈钢卡套接头和PTFE管路

设备保护

模块化控制，对工作过程中的超温、断偶会发出声光报警信号，并自动完成保护动作

人员保护

在设备上装有空开断路器，如发生短路漏电情况时会自动弹开，能保护设备和操作人员

外壳

优质冷轧钢板数控机床下料加工，经过焊接、打磨、抛光、磷化、酸洗、表面静电喷涂塑粉

质量认证

ISO9001   CE    SGS   TUV

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